2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[17p-A205-1~18] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2023年3月17日(金) 13:00 〜 17:45 A205 (6号館)

唐橋 一浩(阪大)、藤崎 寿美子(日立製作所)

13:00 〜 13:15

[17p-A205-1] 粉体ターゲットを用いた3次元の元素空間分布を持つ傾斜膜の作製

川崎 仁晴1、佐竹 卓彦1,2、青木 振一2 (1.佐世保高専、2.崇城大)

キーワード:粉体ターゲット、傾斜機能性薄膜、スパッタリング

多穴型のターゲットホルダを作製し、それを用いて膜厚方向および平面方向に3次元的な空間分布を持つ傾斜機能性薄膜を1度のプロセスでできないか検討した。基板側に進むにつれてFe成分が多くなる傾斜機能成膜の作製に成功するとともに、空間分解能に問題は有るものの平面方向にも分布を持つ薄膜作製が可能となった。