日本化学会 第102春季年会 (2022)

講演情報

アカデミックプログラム[B講演]

20. 材料化学―基礎と応用 » 口頭B講演

[C205-2pm] 20. 材料化学―基礎と応用

2022年3月24日(木) 13:40 〜 15:40 C205 (年会オンライン)

座長:佐藤 良太、山本 一樹

13:40 〜 14:00

[C205-2pm-01] ジエトキシシロキサン類の合成と性質

佐藤 陽平1、速水 良平2、山本 一樹1、郡司 天博1 (1. 東京理科大学、2. 合同会社Zoome)

[言語]英語

キーワード:ポリシロキサン、アルコキシシラン、ゾル・ゲル反応、オリゴシロキサン、シリコーン