日本化学会 第102春季年会 (2022)

講演情報

アカデミックプログラム[B講演]

20. 材料化学―基礎と応用 » 口頭B講演

[C205-2pm] 20. 材料化学―基礎と応用

2022年3月24日(木) 13:40 〜 15:40 C205 (年会オンライン)

座長:佐藤 良太、山本 一樹

14:00 〜 14:20

[C205-2pm-02] 異種ケイ素ユニットからなるモノマーを原料としたポリシロキサンの合成と性質

山本 一樹1、下田 智也1、郡司 天博1 (1. 東京理科大学)

[言語]英語

キーワード:ポリシロキサン、ゾルーゲル法、無機高分子、フィルム