2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術

[17a-B5-1~10] 13.3 絶縁膜技術

2013年9月17日(火) 09:15 〜 12:00 B5 (TC2 2F-201)

10:15 〜 10:30

[17a-B5-5] Si酸化膜正孔トラップ密度のSi面方位依存性

○(M2)梅田啓介1,3,岡田啓太郎2,3,小林大輔3,野平博司1,廣瀬和之3 (東京都市大工1,早稲田大2,宇宙研3)

キーワード:XPS,Trap,Si