[28p-G6-1~17] 13.5 Siプロセス技術

[28p-G6-15] △三次元構造デバイス応用に向けたCO₂レーザーアニールによる積層多結晶シリコン薄膜の形成 (5:45 PM ～ 6:00 PM)

^○（DC）山崎浩司¹，町田絵美¹，堀田昌宏^1,2，石河泰明^1,2，浦岡行治^1,2，池上浩³ (奈良先端科学技術大学院大¹，戦略的創造研究推進事業²，九大³)

キーワード：laser