[11a-B2-1~10] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[11a-B2-3] 半導体露光用ArFエキシマレーザにおけるチャンバ構造とガス流速の最適化による消費電力の低減

〇池田 宏幸¹、諏訪 輝¹、勝海 久和¹、對馬 弘朗¹、熊崎 貴仁¹、黒須 昭彦¹、太田 毅¹、柿崎 弘司¹、松永 隆¹、溝口 計¹ (1.ギガフォトン)

キーワード：リソグラフィ、エキシマ、ArF