[6a-PA8-1~4] 7.5 イオンビーム一般

[6a-PA8-3] 低エネルギー有機ケイ素イオンビームの生成とSiC等成膜への応用

〇吉村 智¹、杉本 敏司¹、竹内 孝江³、木内 正人^1,2 (1.阪大工、2.産総研、3.奈良女大)

キーワード：ヘキサメチルジシラン、ヘキサメチルジシロキサン

シリコンを含有する材料の成膜においては、通常はシランを主原料として用いることが多い。シランは自己発火性をもつ危険性の高いガスであるため、可燃性はあるが比較的安全に扱うことのできる、ヘキサメチルジシランを原料として用いてのシリコンカーバイド成膜、または、ヘキサメチルジシロキサンを用いた酸化ケイ素膜の成膜実験、がしばしば行われている。本研究では、これらを原料として用いて、低エネルギーイオンビームを生成し、これをシリコン基板に照射することにより、シリコンカーバイドまたは酸化ケイ素の成膜を試みた。