[20p-B401-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20p-B401-7] 領域選択的原子層堆積に基づく光ナノインプリントリソグラフィ

〇上原 卓也¹、尾﨑 優貴¹、廣芝 伸哉¹、中村 貴宏¹、中川 勝¹ (1.東北大多元研)

キーワード：光ナノインプリントリソグラフィ、領域選択的原子層堆積

光ナノインプリントおよび残膜除去後に得られる有機物パターンをマスクに用い、露出した基板上の金属薄膜表面に原子層堆積を施すことにより領域選択的に無機薄膜を成膜した。レジスト無機薄膜を介して有機物残存部をドライエッチングで選択的に除去し、金属薄膜パターンを基板上に作製する領域選択的原子層堆積に基づく光ナノインプリントリソグラフィ法(AS-ALD/UVNIL)を検討した。