[20p-B401-1~12] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[20p-B401-8] UV nanoimprint lithography involving a lift-off process for fabrication of Au split-ring nano-resonator arrays

〇Takuya Uehara^1,2, Giuseppe Calafiore², Scott Dhuey², Stefano Cabrini², Masaru Nakagawa¹ (1.IMRAM, Tohoku Univ,, 2.Molecular Foundry, LBNL)

Keywords:split-ring resonator, lift-off, UV nanoimprint lithography

線幅50 nm, ギャップ幅40 nmを有する金のスプリットリング共振器(SRR)配列体は可視光領域の磁場成分と応答を示すことが報告されている。光ナノインプリントリソグラフィによる金SRR配列体の作製を実現することで、光メタマテリアルの大面積作製や新奇光学素子への展開が期待される。本研究では、リフトオフ法を併用した光ナノインプリントリソグラフィによる50ナノメートルサイズ金SRR配列体の作製を検討した。