[20p-B401-1~12] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

△ [20p-B401-9] Fabrication of ultra-flat conductive thin films on atomically stepped polymer sheets

〇Shiori Yamada¹, Risa Goto¹, Taichiro Kinoshita¹, Kisho Nakamura¹, Satoru Kaneko^2,1, Akifumi Matsuda¹, Mamoru Yoshimoto¹ (1.Tokyo Tech Univ., 2.KISTEC.)

Keywords:ultra-flat, Polymer sheet, Conductive thin film

ポリイミド(PI)は成型加工性に優れた材料として、薄膜トランジスタなどの基板に応用できることで注目されている。デバイス形成においては、薄膜‐基板界面の粗さによる特性劣化が問題となる為、均質な薄膜の作製が重要である。フレキシブル基板の表面形状制御にはポリマー可塑性を利用した熱ナノインプリント法が大面積にナノパターニング可能な技術として有用である。一方でフレキシブル基板に対して均質で形状制御された導電性材料を形成することも重要となる。本研究では、超平坦フレキシブル基板上における高導電性薄膜の形成を目的とし、原子ステップポリイミド上の導電性超平坦薄膜の作製と、薄膜に対するレーザー照射やナノインプリントが導電特性に及ぼす影響について検討した。