2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[19p-C207-1~17] 11.4 アナログ応用および関連技術

2019年9月19日(木) 13:15 〜 18:00 C207 (C207)

佐野 京佑(名大)、柴田 浩行(北見工大)

13:15 〜 13:30

[19p-C207-1] 石英基板上での大面積・高品質NbTiN薄膜成膜法

川上 彰1、安藤 綜真2、鈴木 康大2、小松 源3、齊藤 敦2、武田 正典3、寺井 弘高1、鵜澤 佳徳4 (1.情通機構、2.山形大学、3.静岡大学、4.国立天文台)

キーワード:NbTiN、Nb、同調回路

超伝導SISミキサは比較的大きな接合容量を有し、優れた同調回路が不可欠である。現在、ALMA望遠鏡Band10 用のSISミキサは、溶融石英基板上に成膜した高品質NbTiN超伝導薄膜を用いて同調回路を作製、量子雑音限界の5倍以下の優れた低雑音受信機を実現している。しかし高品質NbTiN薄膜を再現性良く大面積に形成することは困難で、今回,Nbバッファ層による新たなNbTiN成膜法を検討。本方法で作製したNbTiN薄膜は,TC=14.9 K,ρ20K=89.9 μΩcmの良好な直流特性を示した.