[15a-PB2-1~22] 8 プラズマエレクトロニクス

[15a-PB2-2] リフレクトロン型飛行時間質量分析計を用いた変調パルス電力マグネトロンスパッタリングの成分分析法の開発

〇中込 雄基¹、平山 睦大¹、渡部 達也¹、兼行 亮輔¹、西宮 信夫¹、實方 真臣¹、山本 宏晃²、戸名 正英²、塚本 恵三²、大下 慶次郎³、美齊津 文典³ (1.東京工芸大工、2.（株）アヤボ、3.東北大院理)

キーワード：マグネトロンスパッタリング、プラズマ計測、光学的計測

変調パルス電力マグネトロンスパッタリング（MPPMS）を用いた成膜において、イオン対中性比率（R_i/n）は重要な指標である。R_i/nを明らかにするためのプラズマ診断法の確立を目的として、これまで行ってきた発光分光計測（OES）に加え、今回新たに飛行時間型質量分析法（TOFMS）の導入を図り、プラズマ領域（OES）および成膜領域（TOFMS）での生成粒子の成分分析を行なった。成分分析の結果から、スパッタ粒子の生成から成膜に至る過程を検討する。