11:15 〜 11:30 [12a-N323-6] ミニマルファブ用ミラー磁場閉じ込めプラズマCVD装置によるジクロロシランガスを用いたシリコン窒化膜形成 〇後藤 哲也1、小林 誠二2、クオン タイ2、薮田 勇気3、須川 成利1、原 史朗4,5 (1.東北大未来研、2.コーテック、3.誠南工業、4.産総研、5.ミニマル)