2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

[17p-A301-1~18] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

2023年3月17日(金) 13:00 〜 18:00 A301 (6号館)

加藤 正史(名工大)

16:00 〜 16:15

[17p-A301-12] GaNリサイクル基板上に作製した縦型PNDと横型MOSFETの電気特性評価

石田 崇1、牛島 隆志1、中林 正助1、加藤 孝三1、小山 貴之1、長里 喜隆1、大原 淳士1、星 真一1、長屋 正武1、原 一都1、金村 高司1、鶴田 和弘1、小島 淳1,2、上杉 勉2、田中 敦之2、笹岡 千秋2、恩田 正一1,2、須田 淳2、原 佳祐3、河口 大祐3、久野 耕司3、筬島 哲也3 (1.ミライズテクノロジーズ、2.名古屋大学、3.浜松ホトニクス)

キーワード:GaN基板、リサイクル、パワーデバイス

縦型GaNパワーデバイスの普及のためには、基板コストを低減する必要がある。基板は従来、デバイス作製後に研削研磨で大部分を除去される。しかし、高価なGaN基板の使い捨てはGaNデバイスのコストアップ要因となる。そこで我々は、デバイス作製後にレーザースライスによりGaN基板表面のデバイス部分を剥離し、下地基板のリサイクルを試みた。今回、リサイクル基板上に作製したデバイスが動作することを確認できたので報告する。