[2I05-10] イオンビーム応用

[2I05] その場イオンビームグラフト重合法における基盤高分子材料へのモノマー導入量の向上

*藤田 尚希¹、谷池 晃¹、古山 雄一¹ (1. 神戸大学)

キーワード：グラフト重合、イオンビーム、タンデム加速器、モノマー

本研究室ではイオンビームグラフト重合に関する研究を行なっている。これまでの研究結果から基盤高分子材料にモノマーをイオンビームと同時に導入する際、チェンバ内が高真空中のため、グラフト率を得るためには前照射法と比べてモノマーの導入量が十分ではないことがわかっている。本研究ではイオンビームの照射を行いながら、十分なモノマーを導入するために、試料に負のバイアス電圧をかけ、モノマーを55℃〜60℃で温めることにより、モノマーの導入量を増やし、グラフト率の向上を目指した。