[C202-2am] 18. 高分子

[C202-2am-06] ハイスループット実験と遺伝的アルゴリズムを用いた高分子材料の黄変抑制のための安定化剤配合設計

^○瀧本 健¹、谷池 俊明¹ (1. 北陸先端科学技術大学院大学)

［言語］英語

キーワード：光劣化、相乗効果、マイクロプレート法、遺伝的アルゴリズム、組み合わせ則