日本化学会 第103春季年会 (2023)

講演情報

アカデミックプログラム[A講演]

19. コロイド・界面化学 » 口頭A講演

[B445-3pm] 19. コロイド・界面化学

2023年3月24日(金) 14:30 〜 15:40 B445 (4号館 [4F] 445)

座長:山﨑 誠志、二村 竜祐

15:30 〜 15:40

[B445-3pm-07] 細孔性窒化ホウ素の形成過程の解明

山下 雅仁1、黒田 泰重1、大久保 貴広1 (1. 岡山大学大学院)

[言語]日本語

キーワード:窒化ホウ素、ナノ細孔、ガス吸着