日本化学会 第103春季年会 (2023)

講演情報

アカデミックプログラム[A講演]

19. コロイド・界面化学 » 口頭A講演

[B445-4pm] 19. コロイド・界面化学

2023年3月25日(土) 13:00 〜 15:00 B445 (4号館 [4F] 445)

座長:粕谷 素洋、飯山 拓

14:30 〜 14:40

[B445-4pm-09] オキシ水酸化ニッケル薄膜への鉄イオンドーピングによる酸素発生反応の高効率化

村上 駆映1、王 可瑄1、河合 武司1 (1. 東京理科大学)

[言語]日本語

キーワード:電析、ニッケル酸化物、鉄イオン