[K206-4am] 20. 材料化学―基礎と応用【会場変更】K205→K501

[K206-4am-03] シルセスキオキサン薄膜の耐原子状酸素特性評価

^○行松 和輝¹、後藤 亜希¹、横山 創一²、家 裕隆²、木本 雄吾¹ (1. 宇宙航空研究開発機構、2. 大阪大学)

［言語］日本語

キーワード：原子状酸素、シルセスキオキサン