日本化学会 第103春季年会 (2023)

講演情報

アカデミックプログラム[A講演]

18. 高分子 » 口頭A講演

[K301-3am] 18. 高分子

2023年3月24日(金) 09:00 〜 11:00 K301 (講義棟 [3F] K301)

座長:正井 宏、青木 大輔

09:20 〜 09:30

[K301-3am-03] プロトン拡散と紫外光照射で分解するアリールケイ素架橋型高分子材料の開発

中川 智稀1、正井 宏1、青木 健太郎2、長尾 祐樹2、寺尾 潤1 (1. 東京大学大学院総合文化研究科、2. 北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス系)

[言語]日本語

キーワード:架橋高分子、有機ケイ素化合物、π共役化合物、プロトン拡散、光分解性材料