【ナノスケール界面・表面の構造とダイナミクス】
セッション6（一般講演6）

[1M20] ホウ素ドープダイヤモンド電極の電気化学的酸化過程におけるin situ ATR-IR観測

〇生越 大河¹、笠原 誠司²、池宮 範人²、栄長 泰明²、星 永宏¹、中村 将志¹ (1. 千葉大院工、2. 慶應義塾大院理工)