1:00 PM - 1:20 PM
[3A1401] Water-soluble bio-sourced resists for DUV lithography in a 200/300mm pilot line environment
*ARNAUD BAZIN1, Alexandre Teolis2, Isabelle Servin1, Paule Durin3, Olha Sysova4, Didier Leonard5, Olivier Soppera4, Jean-Louis Leclercq3, Yann Chevolot3, Raluca Tiron1, Stephane Trombotto2 (1. Univ. Grenoble Alpes, CEA, LETI, F-38000 Grenoble, France, 2. Univ. Claude Bernard Lyon 1, CNRS, UMR 5223, Ingénierie des Matériaux Polymères, INSA Lyon, Université Jean Monnet, F-69622 VILLEURBANNE Cédex, France, 3. Univ. Lyon, Institut des Nanotechnologies de Lyon UMR CNRS 5270, Ecole Centrale de Lyon, 36 Avenue Guy de Collongue, F-69134 Ecully, France, 4. Univ. de Haute-Alsace, CNRS, IS2M UMR 7361, F-68100 Mulhouse, France, 5. Univ. Lyon, CNRS, Université Claude Bernard Lyon 1, Institut des Sciences Analytiques, UMR 5280, 5, rue de la Doua, F-69100 Villeurbanne, France)