第39回フォトポリマー国際会議

フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告
 

2022年6月28日（火）～2022年6月30日（木）
 

A:   英語シンポジウム
 
    A1.    Next Generation Lithography, EB Lithography and Nanotechnology
    A2.    Nanobiotechnology
    A3.    Directed Self Assembly (DSA)
    A4.    Computational / Analytical Approach for Lithography Processes
    A5.    EUV Lithography
    A6.    Nanoimprint
    A7.    193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness
    A8.    Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing
    A9.    2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics
    A10.  Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices
    A11.  Chemistry for Advanced Photopolymer Science
    A12.  Organic and Hybrid Solar Cells – Materials, Device Physics, and Processes
    A13.  Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes
    A14.  General Scopes of Photopolymer Science and Technology
 
P:   Panel Symposium
 
    P1     “Beyond Sub-10 nm Lithography – From a Material Design and Development Perspective–“
   
B:  日本語シンポジウム
 
    B1.    ポリイミド及び高温耐熱樹脂ー機能化と応用ー
    B2.   プラズマ光化学と高分子表面機能化
    B3.   一般講演:
         (１) 光物質科学の基礎 (光物理過程、光化学反応など)
         (２) 光機能素子材料 (分子メモリー、情報記録材料、液晶 など)
         (３) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング
         (４) フォトファブリケーション (光成型プロセス、リソグラフィ)
         (５) レジスト除去、エッチング、洗浄
         (６) 装置 (光源、照射装置、計測、プロセスなど)
 

ZOOM によるオンラインのライブ会議