[3B301-10] 一般講演

[3B303] 高解像性ノボラックレジストの合成

*関口 淳^1,5、花畑 誠²、南 紘子¹、松本 陽子¹、太田 陽介¹、Wang Fucheng³、Ma Martin³、Su Zhiqiang⁴ (1. リソテックジャパン（株）、2. 大阪市立大学、3. 浙江自立高温科技股份有限公司、4. 北京化工技術大学、5. 大阪府立大学)