日本金属学会2020年秋期(第167回)講演大会

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ポスターセッション

5.Materials Chemistry » Materials Chemistry

[P] P54~P58

Tue. Sep 15, 2020 11:10 AM - 1:10 PM ZoomRm.Poster

[P55] TiN deposits coating formed by plasma nitriding using Ti screens with various open hole state

*KOUDAI IMAMURA1, AKIO NISHIMOTO1 (1. Grad. Sch. Sci & Eng., Kansai Univ.)

Keywords:窒化処理、表面改質処理、TiNコーティング、アクティブスクリーンプラズマ窒化、Tiスクリーン

窒化処理の一種であるアクティブスクリーンプラズマ窒化処理法は、試料を絶縁しその周りに設置したスクリーンからの堆積物により窒化を進行させる。本研究ではTiスクリーンを用いることで表面にTiNを形成させた。

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