[G] Analysis/Characterization/Evaluation

[42] Dynamical observation for investigating Ni/Si interfacial reaction mechanism

*hiromasa HARADA¹, yusuke SHIMADA², kenta YOSHIDA², koji INOUE², yasuyoshi NAGAI², toyohiko KONNO² (1. Department of Material Science, Tohoku University, 2. Institute for Materials Research, Tohoku University)

Keywords:界面反応、その場加熱観察、球面収差補正透過電子顕微鏡

我々のグループで開発した加熱システムを用いて、従来よりシャープなNi/Si界面の高分解能その場加熱観察を行った。観察された界面反応やex-situ加熱試料との比較を行うことで界面反応メカニズムの解析を試みる。