日本金属学会2020年秋期(第167回)講演大会

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一般講演

3.Microstructure » Analysis/Characterization/Evaluation

[G] Analysis/Characterization/Evaluation

Fri. Sep 18, 2020 1:00 PM - 4:00 PM Rm. H (ZoomRm.H)

Chair: Sub Chairman (assistant):

1:45 PM - 2:00 PM

[43] 2D evaluation of the potential difference in an InP device by Shadow Image Distortion method

*Katsuhiro SASAKI1, Hirokazu Sasaki2 (1. UACJ Corporation, 2. Furukawa Electric Co. Ltd)

Keywords:半導体、内部電位、レーザーデバイス

影像歪法を用いて、透過電子顕微鏡(TEM)中でInPレーザーデバイス断面のp-n接合界面形状の二次元分布の観察を試み、界面電場の二次元投影ベクトルを捉えられることを示した。

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