[G] 分析・解析・評価

[42] 原子分解能その場加熱観察によるNi/Siの界面反応メカニズムの解析

*原田 寛大¹、嶋田 雄介²、吉田 健太²、井上 耕治²、永井 康介²、今野 豊彦² (1. 東北大工(院生)、2. 金属材料研究所)

キーワード：界面反応、その場加熱観察、球面収差補正透過電子顕微鏡

我々のグループで開発した加熱システムを用いて、従来よりシャープなNi/Si界面の高分解能その場加熱観察を行った。観察された界面反応やex-situ加熱試料との比較を行うことで界面反応メカニズムの解析を試みる。