[G] ソフト・ハード磁性材料

[189] Fe, Ni薄膜内に導入される磁壁の幅とその温度依存性

*新津 甲大^1,2、原田 研²、進藤 大輔² (1. 京大工、2. 理研)

キーワード：磁壁、電子線ホログラフィー、強磁性体

電子線ホログラフィーによりＦｅおよびＮｉの単結晶薄膜内に導入された180度磁壁の幅を、極低温からキュリー温度直下まで計測し、(Ａ/Ｋ)^1/2と磁壁幅の関係性を調査した。