日本金属学会 2020年春期(第166回)講演大会

講演情報

一般講演

3.組織 » 分析・解析・評価

[G] 分析・解析・評価

2020年3月19日(木) 13:00 〜 14:55 M会場 (西8号館3階W833)

座長:波多 聡(九州大学)、井誠一郎(NIMS)

13:00 〜 13:15

[333] 隠れマルコフモデルを用いた電子線ホログラムからの雑音軽減

*玉岡 武泰1、御堂 義博2、山本 和生3、中前 幸治2、村上 恭和1 (1. 九州大、2. 大阪大、3. ファインセラミックスセンター)

キーワード:電子顕微鏡、電子線ホログラフィー、画像処理

高感度電位・磁束分布解析に向け,隠れマルコフモデルを用いたウェーブレット係数の雑音抑制をLaFeO3/SrTiO3二層薄膜を用いて取得した電子線ホログラムに適用した結果を示し,本手法の有用性を述べる。

抄録パスワード認証
抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。

パスワード