[基調講演] Naフラックス法を基軸としたGaNウエハの事業化戦略

講演情報

公募シンポジウム講演

[S2] ワイドギャップ結晶の材料学と高温プロセッシング 2

2020年3月18日(水) 12:45 〜 18:00 I会場 (西講義棟2_1階W611)

座長:福山博之(東北大学)、吉川健(東京大学)、原田俊太(名古屋大学)

16:15 〜 16:55

*森勇介¹、今西正幸¹、村上航介¹、吉村政志¹、守山実希²、隅智亮³、滝野淳一³、岡山芳央³ (1. 阪大、2. 豊田合成、3. パナソニック)

キーワード：Naフラックス法、GaNウエハ

Naフラックス法を基軸としたGaNウエハの事業化戦略

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