日本金属学会2024年秋期(第175回)講演大会

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ポスターセッション

2.Materials Physics » Materials Physics

[P] P75~P79

Wed. Sep 18, 2024 12:00 PM - 1:30 PM Poster Session Room2 (Studio A at Science Commons)

12:00 PM - 1:30 PM

[P79] Crystallization and Characterization of Ge Thin Films Fabricated by MIC Method Using Ag as Catalyst

*Kota CHO1, Yuta ASANO1, Kentaro KYUNO1,2 (1. Shibaura Institute of Technology, 2. SIT Center for Generation Semiconductor Human Resources)

Keywords:半導体、低温結晶、薄膜トランジスタ、MIC法、金属誘起結晶化法

薄膜トランジスタ(TFT)のチャンネル層にGeが注目され、低温結晶化によりフレキシブルデバイスへの応用が期待される。逆積層のMIC法を用い、AgとGeの膜厚の影響を調査した。