[2C08-12] ペトロリオミクス 3

[2C09] RDS/RFCC全体最適処理技術開発：触媒システムによる全体反応制御（２）

田中 隆三¹、平松 義文¹、坂倉 圭¹、○三浦 裕紀¹、原田 真吾¹ (1. 出光興産株式会社)

RDS/RFCC両装置を一体のものとして全体最適化を目指した技術開発を推進している。その一環として、RFCCでの分解性に優れたDSARの製造とRDS触媒活性の安定化を両立するため、分子レベルでのDSAR組成制御コンセプトを考案し、それを実現可能とするRDS触媒システムを構築した。更に、RFCC触媒の最適化も図った上で実装置での検証運転を行い、本全体最適処理技術の優位性を確認した。