[16p-C11-1~12] 界面ナノ電子化学：産業界における最先端半導体デバイスのナノレベル界面制御の課題

[16p-C11-7] 不純物対応洗浄プロセスの課題（30分）

^○明星裕也，成田賢治，堂下秀樹 (パナソニック)

キーワード：洗浄、ウェットエッチング,イオン注入レジスト除去