2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術

[17p-B5-1~21] 13.3 絶縁膜技術

2013年9月17日(火) 13:00 〜 18:30 B5 (TC2 2F-201)

14:15 〜 14:30

[17p-B5-6] 微小電極面積を有する極薄多結晶HfO2膜の電気的特性

戸村有佑1,蓮沼隆1,山部紀久夫1,右田真司2 (筑波大1,産総研2)

キーワード:HfO2