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一般セッション(口頭講演)

08．プラズマエレクトロニクス » 8.4 プラズマエッチング

[18a-C2-1~8] 8.4 プラズマエッチング

2013年9月18日(水) 09:30 〜 11:45 C2 (TC3 1F-102)

10:45 〜 11:00

▲ [18a-C2-5] Real-time / In-situ Electron Spin Resonance Analysis of Chemical Reactions on Silicon-Nitride with CF₄ Gas Plasma

^○（PC）宮脇雄大，王浩然，近藤祐介，石川健治，竹田圭吾，近藤博基，関根誠，堀勝 (名大院工)

キーワード：Electorn Spin Resonance,Silicon Nitride,Etching