2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 半導体表面

[18p-C1-1~13] 13.2 半導体表面

2013年9月18日(水) 13:00 〜 16:30 C1 (TC3 1F-101)

16:15 〜 16:30

[18p-C1-13] CMP装置における表面帯電の膜質影響

石橋知淳,塩川陽一,渡辺和英 (荏原製作所)

キーワード:ウェーハ洗浄,帯電,絶縁膜