[18p-C5-1~8] 大電力パルススパッタリングによる反応性成膜プロセスの可能性（関連大分類：8）

[18p-C5-1] HiPIMSの今－スパッタ源の大電力パルス駆動－（30分）

^○東欣吾 (兵庫県立大)

キーワード：ハイパワ-パルススパッタリング,金属プラズマ,プラズマイオンプロセス