[18p-C5-1~8] 大電力パルススパッタリングによる反応性成膜プロセスの可能性（関連大分類：8）

[18p-C5-2] 大電力パルススパッタのイオン化金属粒子を用いた薄膜構造の制御（30分）

^○中野武雄，馬場茂 (成蹊大理工)

キーワード：スパッタリング,薄膜構造,プラズマ