2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術

[18p-P9-1~10] 13.3 絶縁膜技術

2013年9月18日(水) 13:30 〜 15:30 P9 (デイヴィス記念館 )

13:30 〜 15:30

[18p-P9-5] SiNx膜中へのH2O, HBr分子の透過

奥友希,志賀俊彦,戸塚正裕,竹見政義 (三菱電機 波光電)

キーワード:耐湿性,シリコン窒化膜,ダングリングボンド