2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13．半導体A（シリコン） » 13.3 絶縁膜技術

[18p-P9-1~10] 13.3 絶縁膜技術

2013年9月18日(水) 13:30 〜 15:30 P9 (デイヴィス記念館 )

13:30 〜 15:30

[18p-P9-9] ストレスによりSiO2膜中に生じた欠陥の回復

○滝ヶ浦佑介，蓮沼隆，山部紀久夫 (筑波大電物)

キーワード：ストレス印加,欠陥の回復