2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.5 Siプロセス技術

[19p-B4-1~21] 13.5 Siプロセス技術

2013年9月19日(木) 13:30 〜 19:00 B4 (TC2 1F-106)

17:15 〜 17:30

[19p-B4-15] ランガサイト結晶振動子による化学気相堆積プロセス測定法(2)

松井美沙子,羽深等 (横国大院工)

キーワード:LCM