2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.5 Siプロセス技術

[19p-B4-1~21] 13.5 Siプロセス技術

2013年9月19日(木) 13:30 〜 19:00 B4 (TC2 1F-106)

15:00 〜 15:15

[19p-B4-7] 大気圧マイクロ熱プラズマジェット照射によるa-Ge膜の高速横方向結晶化

○(M2)上倉敬弘,林将平,森崎誠司,山本将悟,東清一郎 (広大院先端研)

キーワード:熱プラズマジェット,結晶化,ゲルマニウム