2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.5 Siプロセス技術

[19p-B4-1~21] 13.5 Siプロセス技術

2013年9月19日(木) 13:30 〜 19:00 B4 (TC2 1F-106)

15:30 〜 15:45

[19p-B4-9] ヘリウムイオン顕微鏡(HIM)観察下でのSiO2からのルミネッセンス評価

小川真一1,飯島智彦1,杉江隆一2,川崎直彦2,大塚裕二2 (産総研1,東レリサーチセンター2)

キーワード:ルミネッセンス,ヘリウムイオン顕微鏡,ダメージ