[20a-A8-1~12] 5.3 光制御

[20a-A8-2] イオン注入技術を応用した立体曲げ導波路の作製

^○吉田知也¹，武井亮平¹，西孝¹，田島渉吾²，鈴木政雄¹，面田恵美子¹，長尾昌善¹，三浦登²，森雅彦¹，榊原陽一¹ (産総研¹，明治大²)

キーワード：シリコンフォトニクス,イオン照射技術