[20a-B4-1~11] 13.5 Siプロセス技術

[20a-B4-11] ミニマル抵抗加熱炉による高速昇温シリコン熱酸化プロセス

^○鈴木真之佑^1,2，柳沼綾美^1,2，森川清彦^1,2，服部昌^1,2，中戸克彦²，三ヶ原孝則²，池田伸一^2,3，ソマワン クンプアン^2,3，原史朗^2,3 (光洋サーモシステム¹，ミニマル²，産総研³)

キーワード：半導体,ミニマル,シリコン