[20a-B4-1~11] 13.5 Siプロセス技術

[20a-B4-7] ミニマルレーザ加熱装置を用いた熱酸化プロセスのメカニズム

^○遠江栄希²，谷島孝²，千葉貴史^1,2，寺田昌男^1,2，池田伸一^2,3，ソマワン クンプアン^2,3，原史朗^2,3 (坂口電熱¹，ミニマルファブ技術研究組合²，産総研³)

キーワード：ミニマルファブ,酸化,Minimal