[20a-B4-1~11] 13.5 Siプロセス技術

[20a-B4-8] ミニマルマスクレス描画装置におけるリソグラフィー解像度の均一性制御

^○北山侑司¹，遠江栄希¹，石井好恵^1,2，入田亮一^1,2，三宅賢治^1,2，ソマワン クンプアン^1,3，原史朗^1,3 (ミニマルファブ技術研究組合¹，PMT²，産総研³)

キーワード：ミニマルファブ,マスクレス,リソグラフィー