[20a-C9-1~12] 13.1 基礎物性・評価

△ [20a-C9-12] 液浸ラマン分光法による高Ge濃度圧縮歪SiGeメサ構造/Ge基板からのLO,TOフォノンスペクトルの観測

^○小瀬村大亮¹，富田基裕^1,3，臼田宏治²，手塚勉²，小椋厚志¹ (明治大理工¹，産総研GNC²，学振特別研究員DC³)

キーワード：SiGe,異方性応力,液浸ラマン