PDF ダウンロード スケジュール 1 いいね! 0 10:15 〜 10:30 [20a-D6-6] Fe層とSi層の積層スパッタにより形成された\beta-FeSi2のキャリア密度に関する研究 ○嘉藤貴史1,稲村太一1,佐々木亮人3,青木克明3,角嶋邦之2,片岡好則2,西山彰2,杉井信之2,若林整2,筒井一生2,名取研二1,岩井洋1 (東工大フロンティア研1,東工大総理工2,東芝マテリアル3) キーワード:FeSi2,環境半導体,キャリア密度